溅射设备原理

溅射设备的原理是在真空下施加高电压，使薄膜材料的原子相互排斥，在物体表面形成薄膜。首先，使用泵将腔室充分减压，然后以恒定压力将氩气等惰性气体填充到装置中。

当对作为薄膜材料的靶材施加高负电压时，引起辉光放电，先前填充在器件中的氩气变成等离子体，与阴极上的靶材碰撞，原子和目标上的分子被喷射。喷射出的目标原子沉积在施加正电压的物体表面，从而可以形成薄膜。