什么是溅射设备及应用？

溅射设备是进行溅射以在物体表面均匀地形成非常薄的薄膜的设备。

溅射与真空蒸镀、离子镀一样，属于物理气相沉积法（PVD法）。主要用于半导体、液晶成膜等多种领域。有时也用于清洁物体表面。

溅射设备的应用

溅射设备用于制造半导体、液晶、等离子显示器等薄膜。此外，与其他PVD沉积设备相比，溅射设备可以形成高熔点金属和合金的薄膜，使其用途广泛。

最近，人们在塑料、玻璃和薄膜的表面沉积金属，使其具有导电性，并且还用作透明电极和触摸屏的布线，进一步扩大了溅射设备的应用范围。

此外，还销售表面涂有光催化氧化钛以具有抗菌性能的医疗器械和杂货。它还用于分析目的，例如扫描电子显微镜(SEM) 的样品制备。