蚀刻设备原理

蚀刻设备分为湿法蚀刻和干法蚀刻两种。

1. 湿法蚀刻

该过程使用酸性或碱性化学品来溶解氧化膜。可一次加工大量板材，生产质量稳定。

由于化学溶液相对便宜，因此可以以低成本制造。然而，该方法不允许垂直加工，因为蚀刻方向沿一个方向进行。 1μm左右的加工是极限。

2.干法蚀刻

干法蚀刻是一种不使用化学品的蚀刻工艺。在干法刻蚀方法中，等离子刻蚀应用最为广泛。这是一种在真空下通过高压将气体转变为等离子体的方法。

等离子体产生方法有电感耦合式和微波式两种，均使用高频电源。这种方法利用产生的等离子体来刮擦物体的表面，并且比湿法蚀刻更昂贵。然而，可以加工100nm至1000nm的细槽。

除了等离子蚀刻之外，还有利用离子碰撞的离子蚀刻、利用气体的气体蚀刻等其他方法。两者都需要真空装置。