ULVAC爱发科

ULVAC爱发科 RTA装置 红外线灯加热设备 VHC-E410

ULVAC爱发科 RTA装置 红外线灯加热设备 VHC-E410

ULVAC爱发科 RTA装置 红外线灯加热设备 VHC-E410ULVAC爱发科 RTA装置 红外线灯加热设备 VHC-E410用于从太阳能电池到化合物半导体等的工艺开发。QHC系列是组合了红外镀金聚焦炉和温度控制器，更加紧凑地装备了石英热处理腔体的高速加热·高速冷却设备。在个人电脑上能进行加热操作简单地数据管理。加热操作可在电脑上进行，可轻松进行数据管理。特点各种条件设定，从高速加热

  • 型号： VHC-E410
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ULVAC爱发科  RTA装置  红外线灯加热设备  VHC-E410

ULVAC爱发科  RTA装置  红外线灯加热设备  VHC-E410




用于从太阳能电池到化合物半导体等的工艺开发。
QHC系列是组合了红外镀金聚焦炉和温度控制器，更加紧凑地装备了石英热处理腔体的高速加热·高速冷却设备。
在个人电脑上能进行加热操作简单地数据管理。
加热操作可在电脑上进行，可轻松进行数据管理。

特点

  • 各种条件设定，从高速加热到低速加热

  • 多步循环加热

  • 通过气体冷却机构进行高速气体淬火和冷却控制

  • 通过PC轻松管理数据

用途

  • 太阳能电池基板的热处理

  • 氢环境下的热处理

  • 各种材料的基础研究用环境退火・热处理模拟器

  • 气淬热处理

  • 热循环测试　热冲击测试

  • 半导体材料的烧制和退火条件的检测

  • 2英寸晶圆研究用退火

  • 陶瓷控制环境下的热处理

规格

ModelQHC、VHC-E410QHC、VHC-P610CQHC、VHC-P616C
Heating MethodFocused light cylindrical heatingParallel light cylindrical heating
Temperature RangeRT ～ 1400℃RT ～ 1200℃
Heating zoneΦ15mm×L 100mmΦ50mm×L 100mmΦ50mm×L 150mm
Soaking zoneΦ10mm×L 80mmΦ40mm×L 80mmΦ40mm×L 120mm
Cooling methodGas blowing from quartz nozzles inside chamber

※1　Heating temperature changes according to the heated sample’s infrared reflectance, absorption, heat capacity, and material.
※2　For other specification requirements, please feel free to contact us.




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