ULVAC爱发科 EB电源 稳定回路高性能型 HPS-1000N-200
ULVAC多年的技术积累和实际成果、具备稳定的回路和高性能的EB電源。
配合EB枪控制器EGC-10GS使用、能对应光学薄膜和金属薄膜用EB枪。
配合EB枪控制器EGC-10GS使用、能对应光学薄膜和金属薄膜用EB枪。
特点
不需要冷却水
强制空冷系统，不需要冷却水可靠性高
作为设备制造商经验积累的成果简易的操作性
操作面板使用液晶触摸屏，操作性得到提升。扫描波形变化
可以在操作屏幕上创建各种光束扫描形式高速电弧中断功能
通过高速电弧中断最大限度地减少成膜率低水平电弧控制功能（光学应用可选）
控制光学应用中所产生的微小电弧以实现稳定的成膜
用途
金属膜用真空沉积
规格
| Model | HPS-1000N-100 | HPS-1000N-200 | |
| Input specification | Input voltage | Three phase, AC190～231V | |
| Input capacity | 14kVA | 15kVA | |
| Output specification | Rated output power | 10kW | |
| Voltage | -4k～-10kV | ||
| Ripple rate | 2％p-p or less (at rated power) | ||
| Beam current | 0～1000mA | ||
| Cooling method | Forced air-cooling | ||
| Dimensions W×D×H | 494×701×712mm | ||
| Weight | 120kg | 145kg | |
| Applicable Standard | CE | ||