UNITEMP 真空工艺快速加热炉VPO-1000-300

UNITEMP 真空工艺快速加热炉VPO-1000-300

顶装式真空工艺快速加热炉

兼容Φ300mm（12英寸）晶圆

最高温度达到1000℃

最大加热速率 40K/秒。

设备尺寸：505 x 505 x 830 毫米（宽x深x高）

设备重量：约105公斤

除了原型开发应用外，还可以集成到在线系统中。

兼容N2、H2和甲酸。兼容真空回流退火工艺和LTO烧结！

加热区上下设有IR（红外线）型加热器，最高温度可达1000℃，并可高速升温40K/秒。采用氮气吹扫方式的冷却方式，降温速度高达190K/min。

触摸屏用于轮廓程序控制。

除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。

它可以加热最大300x300mm或Φ300mm的物体。

真空工艺快速加热炉，尽管其桌面尺寸，最高温度可达1000℃。

兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气（氢气+氮气）吹扫等。

由于工作区域是气体保护的，因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。

加热由顶部和底部的 48 个 IR（红外线）加热器进行，可实现准确、快速的加热。

与适当的真空泵组合，可实现高达0.1Pa（10-3hPa）的真空环境。

兼容氮气吹扫法的温度下降

标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作

主机上最多可注册50个50段（行）的温度控制程序。

可与上下料机、机器人等组合集成到生产线中。