什么是气相沉积设备及应用？

气相沉积设备是进行真空沉积（VD）的设备，在减压下使物质气化并在靶材上形成薄膜。

通过使用气相沉积设备，可以在目标物体上形成光滑的涂膜，并且还可以控制膜的厚度和成分。

气相沉积设备的应用

气相沉积设备可以由多种材料形成薄膜，包括铝等金属材料以及有机和无机材料。

气相沉积设备用于以下目的。

光学薄膜（镜片增透膜、特殊镜子等）

磁带（录音带、录像带等）

半导体（有机EL、LED、太阳能电池等）

电子元件（电阻、电容、半导体集成电路等）

食品包装材料（休闲食品袋用铝蒸镀膜等）

分析用途（样品制备）